Qual è il limite di temperatura massimo di Tantalum Thermowell

Tantalum Thermowell si comporta bene in una varietà di ambienti acidi forti grazie alla sua eccellente resistenza alla corrosione.
In un ambiente di acido solforico, Tantalum Thermowell può essere utilizzato stabilmente anche con una concentrazione fino al 98% di acido solforico concentrato. Anche ad alta temperatura, il film di ossido denso formato rapidamente sulla superficie di Tantalum può impedire effettivamente un'ulteriore erosione dell'acido solforico e garantire l'accuratezza della misurazione della temperatura.
Aqua Regia, come acido misto altamente corrosivo, viene preparato mediante acido nitrico concentrato e acido cloridrico concentrato in un rapporto di volume di 1: 3. Può dissolvere la maggior parte dei metalli, ma Tantalum Thermowell può resistere alla corrosione di Aqua Regia e monitorare in modo affidabile la temperatura in esperimenti o produzione che coinvolgono Aqua Regia.
In un ambiente di acido idrofluorico, la maggior parte dei metalli verrà corrosa rapidamente, ma il tantalum ha una buona tolleranza agli acido idrofluorico. Soprattutto nel processo di produzione elettronica del chip, l'acido idrofluorico viene spesso usato per incidere i wafer di silicio. TANTLUM THERMOWELL può misurare accuratamente la temperatura in questo ambiente corrosivo contenente acido idrofluorico, contribuendo a stabilizzare il processo di produzione del chip.
Nel campo della sintesi chimica, come la reazione della produzione di acidi organici ad alta purezza, il sistema di reazione spesso contiene acidi ad alta concentrazione e altamente corrosiva. TANTLUM THERMOWELL, con la sua eccellente resistenza all'acido, funziona stabilmente in ambienti di acido così forte complessi, raccoglie continuamente i dati di temperatura e garantisce il progresso regolare delle reazioni di sintesi chimica.
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